Ultrasonik Kimyasal Püskürtme ile Üretilen Vanadyum Oksit Filmleri: Taban Sıcaklığının Etkisi

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Çanakkale Onsekiz Mart Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2016

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: Hasan Hakan Başaran

Asıl Danışman (Eş Danışmanlı Tezler İçin): VİLDAN BİLGİN

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Bu çalışmada, vanadyum oksit (VOx) ince filmleri ultrasonik kimyasal püskürtme (UKP) tekniği kullanılarak farklı taban sıcaklıklarında (200, 250, 300 ve 350 °C) mikroskop cam tabanlar üzerine büyütülmüştür. Vanadyum klorür tuzu ve deiyonize su kullanılarak hazırlanan 0,01M'lık başlangıç püskürtme çözeltisi, 5 ml/dk püskürtme hızında 1,5 bar basınçlı hava yardımıyla 20 dk süresince püskürtülerek vanadyum oksit ince filmleri hazırlanmıştır. Filmlerin yapısal, yüzeysel, optiksel ve elektriksel özellikleri incelenmiş ve bu fiziksel özellikleri üzerine taban sıcaklığının etkisi araştırılmıştır. Filmlerin yapısal özelikleri x-ışını kırınımı tekniği ile incelenmiş ve tüm filmlerin polikristal yapıda oldukları belirlenmiştir. Optiksel incelemelerden, filmlerin görünür bölgede yaklaşık %30-50 civarında optiksel geçirgenliğe sahip oldukları ve yasak enerji aralıklarının yaklaşık olarak 2,37-2,48 eV arasında değiştiği tespit edilmiştir. Filmlerin elektriksel iletim mekanizmalarını incelemek için iki uç tekniği kullanılmış ve her bir film için elektriksel iletkenlik değerleri hesaplanmıştır. AFM ile morfolojik yapılarının incelenmesi sonucunda, film yüzeylerinin hemen hemen homojen oldukları ve tabana tutunmanın iyi olduğu gözlenmiştir. Yapılan bütün analizler taban sıcaklığının VOx filmlerin bazı fiziksel özellikleri üzerinde önemli bir etkiye sahip olduğunu göstermiştir.